在2011国际平板显示产业高峰论坛(FPD International CHINA 2011/Beijing Summit)第一天下午的技术演讲上，佳能液晶产品销售技术课课长胜永智浩以“液晶曝光装置的尖端技术”为题，介绍了用于大尺寸液晶面板生产的曝光装置最新动向。
佳能液晶产品销售技术课课长胜永智浩
在演讲中，胜永首先介绍了佳能在中国的业务体制。该公司的中国业务中心位于上海，设置了8个服务网点。共有100多名营业和服务人员应对中国客户的需求。该公司从2004年度开始在中国销售液晶面板曝光装置。其“MPA(Mirror Projection Mask Aligner)系列”曝光装置现已供货了支持第4.5代、第5代、第6代以及第8代的装置。其中，用于第6代和第8代等大尺寸玻璃基板的装置是“MPAsp(Mirror Projection Mask Aligner Smart Platform)系列”的高性能产品，主要用来应对高代线的需求。
大尺寸面板最适合反光镜扫描方式
利用紫外线向玻璃基板上转印图案的曝光装置大致有三种方式。它们分别是紧密贴合掩模和基板来转印图案的的近接方式;固定掩模和基板、运行二者之间的光学系统来转印图案的步进方式;以及转动掩模和基板、同时运行二者之间的光学系统来转印图案的扫描方式。对于液晶面板曝光装置，其分辨率、生产性、以及支持的玻璃基板的尺寸和分辨率需要合乎生产的液晶面板的规格。在对大尺寸液晶面板生产要求的技术需求进行调查后，佳能认为扫描方式最为合适，因此开发出了光学系统采用反光镜的曝光装置。
目前佳能公司的液晶面板曝光装置的分辨率为3μm。该公司计划2011年以后，将支持所有世代玻璃基板的装置的分辨率均提高至2.5μm。另外，“考虑到将来还会要求2.5μm以下的分辨率，因此预定今后进一步提高分辨率”(胜永)。
不过，曝光装置需要的不仅仅是提高分辨率。除分辨率外，还需要提高重叠精度和吞吐量。为了同时提高这些性能，该公司开发了可提高构成曝光装置的照明系统、掩模台、投影光学系统以及基板台性能的技术。由此，第8代基板也“同时实现了2.5μm以下的分辨率、0.5μm～0.6μm的重叠精度以及较最初的第8代装置提高30%%的吞吐量”(胜永)。
计划降低成本并提高环保性能
最后，胜永就今后的举措提出了4个目标。第一是高精细化方面的举措。该公司将以2μm的分辨率为目标推进技术开发。第二是可应对严峻价格竞争的低成本化举措。计划从设计阶段开始着手推进低成本化，并缩短开发周期。第三是设计环保型装置。目标是降低耗电量、削减排热量等。第四是支持新工艺。将设计支持柔性液晶工艺以及取得进步的低温多晶硅工艺等的装置。(记者：伊藤元昭，日经BP社电子机械局编辑委员)
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