2016年实现年产120万片12英寸及以上电子级单晶硅

日前，国家发展改革委、财政部、工业和信息化部会同科技部、中国科学院、中国工程院、国家知识产权局等部门和单位联合制定了《关键材料升级换代工程实施方案》(以下简称《实施方案》)。《实施方案》明确“ 到2016年，推动新一代信息技术、节能环保、海洋工程和先进轨道交通装备等产业发展急需的大尺寸单晶硅、宽禁带半导体及器件、新型平板显示玻璃、石墨烯、PM2.5过滤材料、高性能Low-E玻璃、高速铁路轮对、液化天然气船用殷瓦合金薄带、钛合金管、海水拌养混凝土、新型防腐涂料等20种左右重点新材料实现批量稳定生产和规模应用”，“ 培育30家左右具有较强持续创新能力和市场影响力的新材料企业”。其中，《实施方案》要求，到2016年，新一代半导体材料形成年产120万片12英寸及以上电子级单晶硅片和年产12万片SOI能力。

为贯彻落实国务院印发的《“十二五”国家战略性新兴产业发展规划》(国发[2012]28号)和工业和信息化部印发的《新材料产业“十二五”发展规划》(工信部规[2012]2号)，加快推进新材料产业发展，《实施方案》对新一代信息技术产业发展急需的高性能功能材料提出了具体要求，其中包括新一代半导体材料和新型玻璃材料。

对新一代半导体材料，要求支持低缺陷12英寸及以上电子级单晶硅、超薄8英寸及以上绝缘体上硅(SOI)、宽禁带半导体与器件，以及AMOLED有机发光材料及器件产业化和示范应用。到2016年，形成年产120万片12英寸及以上电子级单晶硅片和年产12万片SOI能力，单晶硅片符合SEMI C12标准要求并在大规模集成电路等领域规模应用;6英寸及以上氮化镓半导体年产超过2万片，并在大功率器件领域实现规模应用;高纯长寿命AMOLED有机发光材料年产达到5吨以上并在新型显示领域实现示范应用，产品性能较目前提升20%%，成本降低30%%;高能射线探测用碲锌镉半导体材料与器件实现产业化，碲锌镉晶体年产达到4000万mm3，并在工业CT及专用探测器等领域实现规模应用。

对新型玻璃材料，要求支持新型TFT显示超薄玻璃基板产业化，玻璃厚度小于0.4mm，单线年产达到80万片以上，并在高端平板电脑、智能手机等领域规模应用。支持高性能光纤预制棒产业化，光纤预制棒年产大于1000吨，预制棒母棒长度≥1.5m，直径≥150mm，单根棒拉丝长度达到300公里，开发系列低损耗、光敏性可控高性能特种光纤，光纤预制棒成本较目前降低50%%，完成基于有源光纤的高能激光器系统应用验证。同时，支持高性能低成本石墨烯粉体及高性能薄膜实现规模稳定生产，在新型显示、先进电池等领域实现应用示范。

同时，《实施方案》指出，要选择一批产业发展急需、市场潜力巨大且前期基础较好的关键新材料，支持产业链上下游优势互补与协同合作，加快新材料技术创新成果产业化和规模应用，提升我国新材料产业化和规模应用能力与效率，促进一批新材料企业形成持续创新发展能力，推动我国新材料产业做大做强。

到2016年，推动新一代信息技术、节能环保、海洋工程和先进轨道交通装备等产业发展急需20种左右重点新材料实现批量稳定生产和规模应用。促进材料生产企业与重大示范应用企业建立优势互补、紧密合作、利益共享机制清晰的新型关系。培育30家左右具有较强持续创新能力和市场影响力的新材料企业。《实施方案》明确，到2020年，继续围绕新一代信息技术、航空航天、先进轨道交通、海洋工程、新能源、新能源汽车等战略性新兴产业和国民经济重大工程建设需要，突出重点，促进50种以上重点新材料实现规模稳定生产与应用。新材料产业创新能力和关键材料自给率显著提升，形成多个具有较强持续创新能力和市场影响力的新材料企业，部分企业创新能力和市场影响力达到国际先进水平。

《实施方案》要求发挥企业创新主体作用和政府引导作用，加强新材料产业化和示范应用等环节的知识产权创造、运用、保护和管理，完善新材料产业标准体系，鼓励创业投资、股权投资投向新材料产业化和重大应用企业，有效拓宽新材料企业融资渠道，支持有条件的企业充分利用中央和地方的人才引进计划和相关支持政策，加强高层次人才和团队引进等六项保障措施。