上海新阳购入ASML光刻机 用于研发193nm Arf干法光刻胶

继中芯国际续单ASML光刻机后，3月8日，上海新阳（300236）公告称，经各方积极协商、运作，ASML-1400光刻机设备于今日已进入合作方北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司场地，后续将进行安装调试等相关工作。

上海新阳表示，公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付，对加快193nmArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，加快落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。

光刻胶究竟是什么？为什么这么重要？事实上，芯片制造中难度最大、耗时最久的工艺就是光刻，其成本超过整个芯片生产成本的30%。而在光刻环节中，光刻胶的作用至关重要。资料显示，光刻胶是一种对光敏感的混合液体，其主要作用是通过光化学反应，基于曝光、显影等光刻工序将所需要刻蚀的细微图形从光罩（掩模版）转移到待加工硅基片上。除了提高加工精度，光刻胶还可以保护硅基材免受腐蚀，阻止离子影响。

根据中国产业信息网与国元证券研究中心联合发布的《全球光刻胶生产企业市场份额》数据显示，目前全球光刻胶主要企业有日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、住友化学、信越化学、美国罗门哈斯等，市场集中度非常高，所占市场份额超过85%。尤其是半导体光刻胶市场，70%的市场份额基本被日本厂商所占据。相较之下，由于起步较晚，缺乏技术、人才资源，国内半导体光刻胶厂商的市场份额仅占2%左右，且主要都集中于G线（436nm）、I线（365nm）等低端品种，ArF光刻胶等高端种类几乎完全依赖进口。

业内分析人士认为，上海新阳立足电子电镀、电子清晰、电子光刻三大核心技术，是国内国为一家能够为晶圆铜制程90-28nm技术节点提供超纯电镀液及添加剂的本土企业。在引进ASML-1400后，上海新阳有可能率先在高端光刻胶方面取得实质性成果。以上海新阳的光刻胶项目进度来看，预计ArF光刻胶于2022年便可实少量销售，2023年则能大批量产，步入广泛的商用阶段。

要知道，ArF光刻胶对28nm到7nm工艺的芯片生产具有关键作用。截至目前，我国最大的芯片代工商——中芯国际最先进的芯片制程也才达到了14nm。业内人士评论称，光刻胶作为半导体光刻工艺的核心材料，决定了半导体图形工艺的精密程度和良率，成为了其中最受瞩目的环节之一。未来，在高端ArF光刻胶领域研发和量产持续突破，将直接作用于中国芯的制造进程，为集成电路产业的快速发展提供驱动力。