IC成就：硕果累累 世人瞩目

十多年来，我国集成电路发展成绩巨大，硕果累累，世人瞩目。

一是产业的发展环境和发展基础得到巨大改善。自2000年国务院18号文件《鼓励软件产业和集成电路产业发展的若干政策》文件出台到2011年4号文件《国务院关于印发进一步鼓励软件产业和集成电路产业发展若干政策的通知》的发布，现已在全国范围内建立起成熟、稳定具有长效机制的优惠政策发展环境，全国各级政府主管部门积极支持和竞相发展集成电路产业早已成为一种风尚，各级政府部门和行业内外对集成电路在社会信息化中的基础性、战略性作用和地位的重要性认知不断加强，集成电路对国民经济发展的倍增器作用和巨大的战略经济价值被越来越多的人们所认识，运用以集成电路为核心的新一代信息技术对国民经济各行业、各领域发展进行引领、改造和发展，已经被全社会广泛认可，这将成为促进集成电路产业发展的根本动力。集成电路整个产业链的任何一个领域都需要不断创新，才能推动发展，而技术创新现已成为全国性广泛共识，我国集成电路的创新环境业和创新能力与十多年前相比，也有了巨大进步，已先后建成北京、上海、无锡、杭州、深圳、西安、成都等7个集成电路设计产业化基地(后来香港也加入其中，成为7+1模式)，建成了15个国家级集成电路人才培训基地，以及各类IP库、IP交易、专利检索等为服务宗旨的支撑平台，集成电路产业的发展基础发生了巨大改变，为今后的进一步发展奠定了坚实基础。

二是产业规模、国际市场份额、技术水平等方面都有了巨大提高。企业数量与规模、行业总规模与从业人员数量、产销规模等快速增长。集成电路产业销售总额从2000年的186.2亿元增长到2011年的1572.2亿元，增长了8.4倍;在国际市场的份额从2000年1.2%%上升到了2011年的8.7%%。特别是集成电路设计业发展成就最为突出，销售额由2000年的11亿元增长到了2011年的473.74亿元，增长了43倍，单个芯片的设计水平从2000年每个芯片内含250万门级、2500万个左右晶体管数量提高到了目前的近亿门级、内含数亿个晶体管数量的新水平。2000年初以来，新建成了20多条8英寸到12英寸集成电路芯片生产线，吸引国内外半导体公司前来投资建厂，为集成电路人才的培养和成长提供全方位、多层次的发展支撑。以中芯国际为代表的一批芯片制造企业相继发展起来并成功上市，芯片制造生产线的技术水平也从2000年初的8英寸、0.25微米提高到了目前的12英寸、45纳米新水平，并正在向12英寸32纳米和22纳米以下技术阶段迈进。

三是取得了一大批创新和应用成果，为国民经济发展作出了巨大贡献。新成果覆盖集成电路设计、芯片制造、封装、半导体专用设备、仪器、关键原材料和众多的集成电路应用领域，在半导体产业链各个领域都有不俗的高水平创新成就涌现，不仅有二代身份证芯片、3G手机核心芯片、数字高清电视芯片等高技术产品，也有国产CPU及其在北斗导航卫星、千万亿次计算机、高性能网络服务器和新一代通信设备等中的应用;在集成电路制造所需要的关键设备和关键材料方面，如12英寸65纳米步进光刻机、高密度等离子体多晶硅刻蚀机、大角度倾斜大剂量离子注入机、12英寸硅抛光片、8英寸及12英寸硅外延片、锗硅外延片、SOI材料、宽禁带化合物半导体材料、248纳米和193纳米光刻胶等方面也相继获得一大批高水平成果，这些成果直接应用在集成电路生产线上。这些成就增强了全产业的发展信心，激发了行业的创新活力，营造出前面所提到的全国范围内空前的发展集成电路产业的氛围，对国民经济发展做出了卓越贡献。

另外，在探索集成电路产业发展规律和促进产业快速发展方面，获得了多方面的巨大进步。在国际合作与往来、投融资环境建设与投资总额、吸引留学人员回国创业、集成电路产业研发项目确立和科技管理方式改进、政府支持集成电路发展的决策体制和机制等方面，都比十多年前有了重大进步与提高。